AI推动ASML EUV光刻机产能增长50%，但仍然不够ASML预计2026年出货约65台低NA EUV设备，较2025年增长近50%，但客户需求可能延伸至2029年至2030年

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   AI推动ASML EUV光刻机产能增长50%，但仍然不够ASML预计2026年出货约65台低NA EUV设备，较2025年增长近50%，但客户需求可能延伸至2029年至2030年

   3小时前

   

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   AI推动ASML EUV光刻机产能增长50%，但仍然不够
   
   ASML预计2026年出货约65台低NA EUV设备，较2025年增长近50%，但客户需求可能延伸至2029年至2030年。公司正通过优化厂房、缩短生产周期和增加供应商扩产。High-NA EUV及更高产能设备加速推进，AI驱动HBM需求使DRAM成为EUV增长新引擎。
   
   来源：腾讯新闻

   3小时前