佳能计划明年将半导体光刻设备产量提高至接近今年两倍，尼康启动更高精度数字光刻设备研发。ASML、通快、JSR等也在扩产、提价或完善供应链，光刻产业正受存储、先进封装和晶圆制造投资带动，但新技术量产进度与需求持续性仍待验证。
来源：腾讯新闻
佳能计划明年将半导体光刻设备产量提高至接近今年两倍，尼康启动更高精度数字光刻设备研发。ASML、通快、JSR等也在扩产、提价或完善供应链，光刻产业正受存储、先进封装和晶圆制造投资带动，但新技术量产进度与需求持续性仍待验证。
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光刻机全线扩产仍供不应求，市场需求旺盛佳能计划明年将半导体光刻设备产量提高至接近今年两倍，尼康启动更高精度数字光刻设备研发
- 光刻机全线扩产仍供不应求，市场需求旺盛
佳能计划明年将半导体光刻设备产量提高至接近今年两倍，尼康启动更高精度数字光刻设备研发。ASML、通快、JSR等也在扩产、提价或完善供应链，光刻产业正受存储、先进封装和晶圆制造投资带动，但新技术量产进度与需求持续性仍待验证。
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