重大突破：我国新一代光刻机模型亮相

第九届进博会上，上海微电子展示新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型。两款设备适配I-line、KrF技术路线，关键部件国产化率超90%，已实现定型和规模化量产，多台设备投入国内产线运行。

来源：华尔街见闻